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ULVAC-PHI 有限公司(神奈川縣茅崎市) 原 泰博)推出了追求高自動化和精簡操作的產(chǎn)品「PHI GENESIS」全新多功能掃描 X 射光電子能譜分析儀（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。

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【背景】
不同的復(fù)合材料被廣泛應(yīng)用于推動全球產(chǎn)業(yè)鏈的全固態(tài)電池、先進(jìn)的半導(dǎo)體和光催化劑。在材料研發(fā)中，不僅要求材料的性能和優(yōu)化材料界面的粘附性能，還需要與時(shí)間賽跑。為了滿足日新月異、復(fù)雜的表面和界面分析需求，加快材料的研發(fā)，我們推出了新的產(chǎn)品 XPS 表面分析儀不僅基本性能強(qiáng)，自動化程度高，而且能滿足客戶的各種個(gè)性化要求。這就是 ULVAC-PHIAOS代理 新推出的掃描式 X 射光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。

【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大進(jìn)化的基本性能置于高空間利用的外殼中，保持50 年傳統(tǒng)的 PHI XPS 該系列的核心基因提高了自動化，成為最新的科研儀器，大大縮短了分析時(shí)間，具有可擴(kuò)展性。

「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換和多點(diǎn)分析功能，結(jié)合高靈敏度分析儀，提供快速、高靈敏度和微區(qū)域 XPS 分析。迄今為止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 許多世界首創(chuàng) XPS (掃描微聚焦型) X 射線，全自動化 XPS 通過硬分析、自動中和絕緣體分析、用簇離子蝕刻槍對有機(jī)材料進(jìn)行深入分析 X 射線對無機(jī)材料進(jìn)行無破壞性深入分析)。將這些技術(shù)整合到儀器中，可以為金屬、半導(dǎo)體、陶瓷和有機(jī)物提供尖端材料 XPS 分析技術(shù)。

PHI GENESIS 另一項(xiàng)創(chuàng)新是對易用性的追求。新軟件旨在為各級用戶提供快速使用。無論是表面分析的初學(xué)者還是尖端科學(xué)家，造現(xiàn)場和尖端開發(fā)研究機(jī)構(gòu)用戶的習(xí)慣和需求。ULVAC-PHI它還提供了實(shí)驗(yàn)室級的硬硬 X 在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中，射線選項(xiàng)也可以采用大型同步輻射光源進(jìn)行高級分析。

PHI GENESIS 不僅支持最先進(jìn)的復(fù)合材料分析，還可以分析復(fù)合設(shè)備的產(chǎn)品。目標(biāo)是加快全球研發(fā)。

【上市時(shí)間】
2023 年 4 月