功耗降低30%:臺(tái)積電3nm工藝已量產(chǎn)
（2025年9月3日更新）
7月22日，作為臺(tái)積電最大的客戶，蘋果近年來(lái)iPhone新產(chǎn)品可以啟動(dòng)新一代臺(tái)積電技術(shù)，但今年iPhone 14趕不上臺(tái)積電3nm工藝了。
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iPhone 14系列無(wú)緣3nm主要是臺(tái)積電3nm今年工藝進(jìn)展有點(diǎn)晚，上半年沒(méi)能量產(chǎn)，拖到下半年，跟不上蘋果的量產(chǎn)進(jìn)度。然而，最新消息稱，3nm該工藝已開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)，同時(shí)在新竹和南科兩個(gè)園區(qū)的工廠大規(guī)模生產(chǎn)最先進(jìn)的工藝。然而，臺(tái)積電官員沒(méi)有確認(rèn)這一消息，臺(tái)積電表示不評(píng)估市場(chǎng)謠言。
根據(jù)臺(tái)積電前的消息，3nm節(jié)點(diǎn)上至少有五代衍生工藝，即N3、N3P、N3S、N3X及N3E，其中N3工藝是最早量產(chǎn)的。N5工藝，N3功耗可降低約25-30%，性能可提高10-15%，晶體管密度可提高約70%。
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