
什么樣的半導(dǎo)體會習(xí)慣貴族?它有什么神秘之處?他的特點(diǎn)是什么?它的制備方法和產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)鞘裁矗科浣K端應(yīng)用產(chǎn)品的市場分布如何?接下來,本文將介紹砷化鎵的材料屬性優(yōu)勢、制備工藝、具體應(yīng)用場景等,希望梳理砷化鎵的一些問題。文章中的一些數(shù)據(jù)作者根據(jù)官方公布的數(shù)據(jù)進(jìn)行了一定程度的基本處理,所有圖片來源都注明了來源。此外,本文的公司排名與公司實(shí)力無關(guān),沒有作者的主觀觀點(diǎn),只是介紹問題;同時(shí),由于作者信息有限,如果介紹不當(dāng),作者現(xiàn)在道歉!望知悉。
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什么是砷化鎵?
砷化鎵(GaAs)作為第二代半導(dǎo)體,價(jià)格昂貴,被稱為半導(dǎo)體貴族。砷化鎵是繼硅之后最成熟的化合物半導(dǎo)體材料,具有頻率高、電子遷移率高、輸出功率高、噪音低、線性好等優(yōu)點(diǎn)。它是光電子和微電子行業(yè)最重要的支撐材料之一。以砷化鎵為代表的第二代半導(dǎo)體廣泛應(yīng)用于高頻、高速、大功率、低噪聲、耐高溫、耐輻照等集成電路領(lǐng)域,已發(fā)展成為現(xiàn)代電子信息產(chǎn)品和信息高速公路的關(guān)鍵技術(shù)G芯片市場很好,產(chǎn)品供不應(yīng)求。砷化鎵(GaAs)近年來,隨著物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展,它是光電和手機(jī)網(wǎng)通高頻通信不可或缺的組成部分(loT)、車聯(lián)網(wǎng)及Al(人工智能)應(yīng)用激增,各國加快建設(shè)5G基礎(chǔ)設(shè)施,加蘋果iPhoneX引入面部識別功能,帶動砷化鎵VCSEL對高級通信元件的需求大幅增加。面對砷化鎵行業(yè)的大商機(jī),國內(nèi)外砷化鎵和光電廠都力搶進(jìn)。以下是砷化鎵材料與其它半導(dǎo)體材料的性能對比:
表1、砷化鎵材料與其他半導(dǎo)體材料的屬性比較
砷化鎵廣泛應(yīng)用于遙控、手機(jī)、DVD許多光電子領(lǐng)域,如計(jì)算機(jī)外設(shè)、照明等。此外,由于其電子遷移率是硅的6倍,砷化鎵已成為超高速、超高頻設(shè)備和集成電路的必需品。它也廣泛應(yīng)用于軍事領(lǐng)域,是激光導(dǎo)彈的重要材料。它曾在海灣戰(zhàn)爭中表現(xiàn)出巨大的力量,贏得了砷化鎵擊敗鋼鐵的美譽(yù)。砷化鎵單晶片的價(jià)格約為同尺寸硅單晶片的20至30倍。盡管價(jià)格昂貴,但砷化鎵半導(dǎo)體的年銷售額仍超過10億美元。在十五計(jì)劃中,中國將實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化,占領(lǐng)國際市場。
砷化鎵的制造工藝
砷化鎵,作為一種化合物半導(dǎo)體,其生產(chǎn)過程類似于大多數(shù)化合物半導(dǎo)體碳化硅、磷化鎵,包括多晶合成、單晶生長后切割、磨邊、研磨、拋光、清洗等工藝后真空包裝成品,其中多晶合成、單晶生長是核心工藝。但它也有自己獨(dú)特的特點(diǎn),本文將詳細(xì)介紹單晶片和襯底的特點(diǎn):
1. 砷化鎵單晶
砷化鎵單晶砷化鎵單晶導(dǎo)帶為雙能谷結(jié)構(gòu),最低能谷位于第一布里淵區(qū)中心,電子質(zhì)量為0.068m0 (m0為電子質(zhì)量,見載流子),次低能谷位于<111>L點(diǎn)的方向比最低能谷高0左右.29eV,其電子有效質(zhì)量為0.55m0.價(jià)帶頂約位于布里淵區(qū)中心,價(jià)帶中輕空穴和重空穴的有效質(zhì)量分別為0.082m0和0.45m0。電子和空穴遷移率分別為8萬cm/(V·s)和100~300cm/(V·s),少數(shù)載流子的壽命為10-2~10-3μs。在其中摻入Ⅵ族元素Te、Se、S等或Ⅳ族元素Si,N型半導(dǎo)體可與之混合Ⅱ族元素Be、Zn可制成P型半導(dǎo)體,摻入Cr或提高純度產(chǎn)生高達(dá)107~108的電阻率Ω·cm半絕緣材料。
制備GaAs單晶方法包括區(qū)熔法和液封直拉法。可通過擴(kuò)散、離子注入、氣相或液相外延和蒸發(fā)等方法制成PN結(jié)、異質(zhì)結(jié)、肖特基結(jié)、歐姆接觸等。近十年來,由于分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)技術(shù)發(fā)展,可在GaAs異質(zhì)結(jié)和超晶格結(jié)構(gòu)是在單晶襯底上制備的,這些結(jié)構(gòu)已經(jīng)制成了高電子遷移率晶體管等新型半導(dǎo)體器件(HEMT)、異質(zhì)結(jié)雙極晶體管(HBT)激光器等,為GaAs材料的應(yīng)用開發(fā)了更廣闊的前景。
2. 砷化鎵外延材料
外延材料的制備采用氣相沉積或液相沉積的方法,使砷化鎵或其他材料的單晶膜生長在砷化鎵或其他材料的表面,統(tǒng)稱為砷化鎵外延材料。如果襯底和外延層由同一材料組成,則稱為同質(zhì)結(jié)外延層,如果由不同材料組成,則稱為異質(zhì)結(jié)外延層。延伸材料可為單層結(jié)構(gòu)或多層結(jié)構(gòu)。砷化鎵外延材料的制備方法與大眾化合物半導(dǎo)體相似,主要包括氣相外延法和液相外延法。氣相外延法:通過氣相運(yùn)輸和氣相反應(yīng)實(shí)現(xiàn)薄膜生長的過程。砷化鎵外延層通常采用氯化物法和氫化物法生長,Ga-AsCl3-H2已成為氯化物法的代表工藝,其特點(diǎn)是易于實(shí)現(xiàn)高純生長。1970年,麻省理工學(xué)院華爾夫(Walf)砷化鎵氣相外延層的電子濃度和電子遷移率為n77k=7×1013cm-3和μ77k=2.1×105cm/(V·s);液相外延法:砷化鎵飽和溶液在一定溫度下通過冷卻過飽和,然后在砷化鎵襯底上生長砷化鎵膜。根據(jù)1969年的報(bào)告,結(jié)果是:77K電子濃度和電子遷移率為n77k=7.6×1012cm-3、μ77k=1.75×105cm/(V·s)。
3. 綜合而言
與單晶制備方法相比,砷化鎵晶體的主流生長工藝包括LEC法、HB法、VB法以及VGF法等,其中Sumitomo砷化鎵單晶生產(chǎn)VB法為主,F(xiàn)reiberger以VGF和LEC北京通美以法律為主,而北京通美則以法律為主VGF法為主。目前,中國涉及砷化鎵襯底業(yè)務(wù)的公司很少。除北京通美外,廣東先進(jìn)材料有限公司等公司正在生產(chǎn)中LED砷化鎵襯底有一定規(guī)模。
對于各種方法的比較,本文介紹如下:
①目前單晶直徑 HB 法生長的最大單晶直徑通常是 3 英寸,LEC 法生長的單晶直徑最大 12 英寸,但使用 LEC 單晶晶體設(shè)備投入成本高,晶體不均勻,位錯(cuò)密度高。目前 VGF 法和 VB 單晶直徑最大可達(dá)8英寸,晶體均勻,位錯(cuò)密度低;②與其他方法相比,單晶質(zhì)量VGF晶體位錯(cuò)密度低,生產(chǎn)效率穩(wěn)定;③在生產(chǎn)成本方面,HB法律成本最低,LEC法律成本最高,VB法和VGF法生產(chǎn)的產(chǎn)品性能相似,但VGF該方法取消了機(jī)械傳動結(jié)構(gòu),以更低的成本穩(wěn)定生產(chǎn)單晶。下圖顯示了國內(nèi)公司與國家砷化鎵行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的比較:
圖1、半絕緣砷化鎵與國際先進(jìn)水平的比較
全球競爭格局
砷化鎵晶體生長、襯底和外延片在砷化鎵產(chǎn)業(yè)鏈上游生產(chǎn)加工。襯底是外延層半導(dǎo)體材料生長的基礎(chǔ),在芯片中起著承載和固定的關(guān)鍵作用。砷化鎵襯底的原料包括金屬鎵、砷等,由于自然界中沒有天然砷化鎵單晶,需要人工合成;砷化鎵襯底生產(chǎn)設(shè)備主要包括晶體生長爐、研磨機(jī)、拋光機(jī)、切割機(jī)、檢測試設(shè)備等。砷化鎵產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用主要涉及5G通信,新一代顯示(Mini LED、Micro LED)、無人駕駛、人工智能、可穿戴設(shè)備等領(lǐng)域。
由于行業(yè)整體規(guī)模小,非標(biāo)準(zhǔn)化程度高,化合物半導(dǎo)體主要是OEM模式。歐美主導(dǎo)砷化鎵產(chǎn)業(yè)鏈,中國臺灣省廠商壟斷OEM。日本住友,德國住友Freiberger和美國的AXT總市場份額約占全球半絕緣襯底的90%。受襯底尺寸限制,目前的生產(chǎn)線主要是4英寸和6英寸晶圓,一些企業(yè)也開始引進(jìn)8英寸生產(chǎn)線,但尚未形成主流。因?yàn)樯榛壥且訣mitterbase-Collector以垂直結(jié)構(gòu)為主,晶體管數(shù)量僅為100個(gè)數(shù)量級;硅晶圓是Source Gate Drain在平面設(shè)計(jì)中,晶體管的數(shù)量達(dá)到了數(shù)千萬的數(shù)量級,因此砷化鎵在工藝研發(fā)上沒有硅晶圓代工業(yè)那么明顯。
4、6 英寸半絕緣砷化鎵拋光片的生產(chǎn)技術(shù)主要掌握日本居民電工(Sumitomo Electric Industries)、費(fèi)里伯格,德國(Freiberger Compound Material)、美國 AXT 三家公司手中。這些公司的產(chǎn)品占砷化鎵市場的絕大多數(shù)。砷化鎵單晶生長技術(shù)也晶率高,成本低VB/VGF轉(zhuǎn)移單晶生長技術(shù)。到2015年,6寸襯底已占市場份額的90%以上。6英寸半絕緣砷化鎵產(chǎn)品的電阻率為107Ω·cm覆蓋到108Ω·cm,晶體軸向和徑向電阻率均勻性高。拋光片的加工幾何參數(shù),如TTV、Warp、LTV也很小。拋光片的表面質(zhì)量狀態(tài)也很好,如顆粒少、表面鈍化等,產(chǎn)品保存時(shí)間長。具體世界市場分布如下圖所示:
圖2顯示了砷化鎵材料的世界市場分布
注:圖片來源于北京通美招股說明書
砷化鎵產(chǎn)業(yè)鏈
砷化鎵產(chǎn)業(yè)鏈
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全球砷化鎵襯底市場集中度較高。Yole據(jù)統(tǒng)計(jì),2019年全球砷化鎵襯底市場的主要制造商包括Freiberger、Sumitomo和北京通美,其中Freiberger占比 28%、Sumitomo北京通美占21%和13%。砷化鎵晶體的主流生長過程包括LEC法、HB法、VB法以及VGF法等,其中Sumitomo砷化鎵單晶生產(chǎn)VB法為主,F(xiàn)reiberger以VGF和LEC北京通美以法律為主,而北京通美則以法律為主VGF法為主。目前,中國涉及砷化鎵襯底業(yè)務(wù)的公司很少。除北京通美外,廣東先進(jìn)材料有限公司等公司正在生產(chǎn)中LED砷化鎵襯底有一定規(guī)模。由于下游應(yīng)用市場需求持續(xù)強(qiáng)勁,砷化鎵襯底AdvancedLinearDevices代理市場規(guī)模將繼續(xù)擴(kuò)大。根據(jù)Yole據(jù)估計(jì),2019年全球相當(dāng)于2英寸砷化鎵襯底市場銷量約為2000萬件,預(yù)計(jì)到2025年全球相當(dāng)于2英寸砷化鎵襯底市場銷量將超過3500萬件;2019年全球砷化鎵襯底市場規(guī)模約為 2 預(yù)計(jì)1億美元 2025 年度全球砷化鎵襯底市場規(guī)模將達(dá)到 3.48 億美元,2019-2025年復(fù)合增長率9.67%。
砷化鎵的用途
砷化鎵是目前主流的化合物半導(dǎo)體材料之一,其應(yīng)用可分為三個(gè)階段。砷化鎵襯底從20世紀(jì)60年代開始應(yīng)用于第一階段LED以及太陽能電池,主要用于航天領(lǐng)域。自20世紀(jì)90年代以來,隨著移動設(shè)備的普及,砷化鎵襯底開始用于生產(chǎn)移動設(shè)備的射頻設(shè)備。自2010年以來,第三階段一直存在LED隨著智能手機(jī)的普及,砷化鎵襯底已進(jìn)入2017年等大規(guī)模應(yīng)用階段,iPhone X首次引入了VCSEL用于面部識別和生產(chǎn) VCSEL 砷化鎵襯底需要使用,砷化鎵襯底的應(yīng)用場景再次拓寬。2021年,隨著Apple、Samsung、LG、TCL等廠商加入Mini LED砷化鎵襯底的市場需求將迎來爆炸性增長。目前,砷化鎵襯底主要用于下游設(shè)備,包括射頻設(shè)備LED、激光器。
(一)砷化鎵射頻器件應(yīng)用介紹
射頻設(shè)備是實(shí)現(xiàn)信號發(fā)送和接收的關(guān)鍵設(shè)備。射頻設(shè)備主要包括功率放大器、射頻開關(guān)、濾波器、數(shù)模/模數(shù)轉(zhuǎn)換器等設(shè)備。其中,功率放大器是放大射頻信號的設(shè)備,直接決定了移動終端和基站的無線通信距離和信號質(zhì)量。砷化鎵一直是制造射頻功率放大器的主流襯底材料之一。4G時(shí)代起,4G隨著基站建設(shè)和智能手機(jī)的不斷普及,對制造智能手機(jī)射頻器件的砷化鎵襯底需求開始增加。進(jìn)入5G時(shí)代之后,5G通信對功率、頻率和傳輸速度提出了更高的要求。砷化鎵襯底制成的射頻設(shè)備非常適合長距離、長通信時(shí)間的高頻電路。因此,在5中G砷化鎵在射頻器件中的材料優(yōu)勢更為顯著。隨著5G大量的基站建設(shè)將為砷化鎵襯底的需求帶來新的增長驅(qū)動力;同時(shí),單部5G手機(jī)使用的射頻器件數(shù)量將比4G隨著手機(jī)數(shù)量的急劇增加,對砷化鎵需求的增長。伴隨5G通信技術(shù)的快速發(fā)展和不斷推廣,5G基站建設(shè)及5G手機(jī)的推廣將穩(wěn)步增長砷化鎵基射頻器件。
手機(jī)中射頻(RF)設(shè)備的成本越來越高。一個(gè)4G全網(wǎng)通手機(jī),前端RF套件的成本已達(dá)8-10美元,包括超過10個(gè)射頻芯片,包括2-3個(gè)PA、2-4開關(guān),6-10濾波器。未來隨著5G的到來,RF套件的成本很可能超過手機(jī)主芯片。此外,物聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)必然會將射頻設(shè)備的需求推向高潮。一般情況下,的射頻芯片通常占整個(gè)線路面板的30%-40%。據(jù)悉,一部iPhone 射頻芯片的成本高達(dá)24美元,據(jù)報(bào)道,蘋果今年對射頻芯片的投資將超過30美元。隨著智能手機(jī)迭代的加快,射頻芯片也將迎來一波高峰。
根據(jù)Yole預(yù)計(jì)2025年全球射頻器件砷化鎵襯底市場銷量將超過965.70萬件,2019-2025年復(fù)合增長率為6.32%。2025年全球射頻器件砷化鎵襯底市場規(guī)模將超過9800萬美元,2019-2025年復(fù)合增長率為 5.03%。據(jù)YOLE數(shù)據(jù)分析銷售和市場規(guī)模預(yù)測如下:
圖4、砷化鎵襯底銷量及射頻器件市場規(guī)模預(yù)測
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(二)砷化鎵材料LED應(yīng)用介紹
LED它是由化合物半導(dǎo)體(砷化鎵、氮化鎵等)組成的固體發(fā)光器件,能將電能轉(zhuǎn)化為光能。由不同的材料制成 LED 會發(fā)出不同波長、不同顏色的光,LED 根據(jù)發(fā)光顏色可分為單色 LED、全彩 LED 和白光 LED 等類型。LED 可根據(jù)芯片尺寸分為常規(guī) LED、Mini LED、Micro LED 等類型,包括常規(guī) LED 主要用于通用照明、戶外顯示屏等,Mini LED、Micro LED 應(yīng)用于新一代顯示。Mini LED2022年3月9日,背光市場成交量加快:TCL發(fā)布三款Mini LED新一代電視產(chǎn)品發(fā)布QD-Mini LED技術(shù),除了TCL包括三星、索尼、LG創(chuàng)維、小米、華為、海信等國際品牌不斷研發(fā)推出Mini LED背光電視。據(jù)LEDinside,2022年整體Mini LED與2021年相比,背光電視萬臺,比2021年翻倍。根據(jù)筆電Omdia根據(jù)最新調(diào)查,2021年配備了最新調(diào)查Mini LED背光筆電面板出貨量達(dá)到450萬片,筆電滲透率飆升至1.6%,2022年Mini LED預(yù)計(jì)筆電面板出貨量為990萬片,滲透率為3%。隨著Mini LED技術(shù)不斷成熟,良品率逐步提高,Mini LED每年背光成本下降15-20%,Mini LED已成為當(dāng)代主流顯示技術(shù),滲透率有望加快。
Mini/Micro LED大規(guī)模應(yīng)用主要有兩個(gè)方向,一個(gè)是RGB直接顯示,使用Mini/Micro LED顯示方案可以實(shí)現(xiàn)更小的尺寸和更高的分辨率;另一種是使用Mini/Micro LED作為背光方案,應(yīng)用于背光方案TV、車載、筆記本電腦、顯示器等。其中,Mini LED背光技術(shù)可以有效地改善液晶顯示器在對比度和能耗方面的不足;同時(shí),依托世界上最成熟、最具規(guī)模優(yōu)勢的液晶顯示產(chǎn)業(yè)鏈,預(yù)計(jì)將率先在消費(fèi)市場上大規(guī)模應(yīng)用。“Mini LED技術(shù)要求更高,主要是超大屏幕需求,價(jià)格高,消費(fèi)群體有限。MiniLED背光模塊可應(yīng)用于電視、筆記本電腦、平板電腦、顯示器等,提高這些應(yīng)用的顯示效果,提高產(chǎn)品溢價(jià)空間,更好地滿足消費(fèi)者的需求。
隨著LED照明普及率不斷提高,常規(guī)LED芯片和設(shè)備的價(jià)格不斷下降。常規(guī)LED芯片尺寸為mm,砷化鎵襯底技術(shù)要求相對較低,屬于砷化鎵襯底低端需求市場,產(chǎn)品附加值低,主要由國內(nèi)砷化鎵襯底企業(yè)占據(jù),市場競爭激烈;新一代顯示Mini LED 和 Micro LED芯片尺寸為亞毫米和微米,對砷化鎵襯底的技術(shù)要求很高,市場主要由世界第一梯隊(duì)制造商占據(jù)。據(jù)YOLE數(shù)據(jù)分析,LED設(shè)備銷售和市場規(guī)模預(yù)測如下:
圖五、LED砷化鎵襯底銷量及市場規(guī)模預(yù)測
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根據(jù) Yole 預(yù)測,Mini LED 及 Micro LED 2025年,全球?qū)ι榛壱r底的需求迅速增長 Mini LED 及 Micro LED 砷化鎵襯底(相當(dāng)于2英寸)的市場銷售將從 2019年的 207.90 萬片增長至 613.80 萬片,年復(fù)合增長率為 19.77%;2019 年全球 Mini LED及 Micro LED 砷化鎵襯底的市場規(guī)模約為 1,700 萬美元,預(yù)計(jì)到 2025 年度全球砷化鎵襯底市場規(guī)模將達(dá)到 7,000 一萬美元,年復(fù)合增長率為26.60%。
圖六、1990—2030年LED增長預(yù)測圖
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(3)砷化鎵激光器應(yīng)用介紹
激光器是一種由大量光學(xué)材料和部件組成的綜合系統(tǒng),采用受激輻射產(chǎn)生可見光或不可見光。利用砷化鎵電子遷移率高、光電性能好的特點(diǎn),可用于人工智能、無人駕駛等應(yīng)用領(lǐng)域。根據(jù) Yole 激光器是砷化鎵襯底未來五年最大的應(yīng)用增長點(diǎn)之一。預(yù)計(jì)到2025年,全球激光砷化鎵襯底(相當(dāng)于2英寸)的市場銷量將從2019年的106.2萬增長到330.3萬,年復(fù)合增長率為20.82%;預(yù)計(jì)到2025年,全球激光砷化鎵襯底的市場容量將達(dá)到 6,100 年復(fù)合增長率為萬美元 16.82%。據(jù)YOLE激光器件的銷售和市場規(guī)模預(yù)測如下:
圖七、2019-2025 全球激光器件砷化鎵襯底預(yù)計(jì)銷量和市場規(guī)模
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在具體應(yīng)用方面,未來五年激光砷化鎵襯底的需求增長主要是由于 VCSEL 需求拉動。VCSEL它是一種垂直于襯底表面的半導(dǎo)體激光器。在應(yīng)用場景中,多個(gè)激光器經(jīng)常同時(shí)排列在襯底的多個(gè)方向,形成面部識別和全身識別的并行光源。目前,它已廣泛應(yīng)用于智能手機(jī)中。
VCSEL作為3D隨著傳感技術(shù)的基本傳感器, 5G 由于物聯(lián)網(wǎng)傳感技術(shù)的廣泛應(yīng)用,通信技術(shù)和人工智能技術(shù)的發(fā)展,VCSEL 市場規(guī)模不斷增長,尤其是 VCSEL為發(fā)射源的 3D 三維相機(jī)將迎來一個(gè)快速發(fā)展的時(shí)期D 相機(jī)是一種可以記錄立體信息并顯示在圖像中的相機(jī),可記錄物體的縱向尺寸、縱向位置和縱向移動軌跡。此外,VCSEL作為 3D 在生物識別、智能駕駛、機(jī)器人、智能家居、智能電視、智能安全等方面,傳感器3D建模、人臉識別和VR/AR新興領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。
根據(jù)Yole預(yù)測,隨著3D傳感技術(shù)在各個(gè)領(lǐng)域的深度應(yīng)用,VCSEL隨著砷化鎵襯底的需求增加,市場將繼續(xù)快速發(fā)展。2019年,全球VCSEL砷化鎵襯底(相當(dāng)于2英寸)的銷量約為93.89萬件,預(yù)計(jì)將達(dá)到 2025年將增長到29.32萬片,年復(fù)合增長率達(dá)到21.32%;2019年全球 VCSEL 砷化鎵襯底市場規(guī)模約為2100萬美元,預(yù)計(jì)將達(dá)到 2025 全球砷化鎵襯底市場規(guī)模將超過5600萬美元,復(fù)合年增長率為17.76%。據(jù)YOLE數(shù)據(jù)分析,VCSEL砷化鎵器件銷售及市場規(guī)模預(yù)測如下:
圖八、VCSEL砷化鎵器件銷售市場規(guī)模預(yù)測
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目前,半導(dǎo)體激光行業(yè)的企業(yè)很少。一般來說,涉足半導(dǎo)體激光行業(yè)的公司始終專注于半導(dǎo)體激光芯片的研發(fā)、設(shè)計(jì)和制造。其部分產(chǎn)品包括高功率單管系列產(chǎn)品、高功率巴條系列產(chǎn)品和高效率VCSEL高功率半導(dǎo)體激光芯片的列產(chǎn)品,逐步實(shí)現(xiàn)高功率半導(dǎo)體激光芯片的定位。目前,許多公司跟上下游市場的發(fā)展趨勢,不斷開發(fā)領(lǐng)先的產(chǎn)品、創(chuàng)新優(yōu)化制造技術(shù)、布局建設(shè)生產(chǎn)線,形成了半導(dǎo)體激光芯片、設(shè)備、模塊和直接半導(dǎo)體激光四類、多系列產(chǎn)品矩陣,為半導(dǎo)體激光行業(yè)垂直產(chǎn)業(yè)鏈公司。其中VCSEL該系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于光纖激光器、固體激光器和超快激光器D傳感與攝像、人臉識別與生物傳感等領(lǐng)域。
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