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光刻機對芯片制造商至關重要ASML新技術也在積極布局。據外媒報道，截至目前 2022 年度第一季度，ASML已出貨136個EUV約7000萬晶圓已被曝光。

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根據官方聲明，新型號EUV光刻機系統 NXE:3600D可用性將達到93%，這將進一步接近它DUV光刻機(95%的可用性)。

數據顯示，NXE:3600D每小時可生產160個晶圓 (wph)，速度為30mJ/cm，這比 NXE:3400C高18%。二是正在開發的 NXE:3800E系統最初將是30mJ/cm提供的速度大于195wph吞吐量升級后，產能達到220wph。

據介紹，NXE:3600E 漸進式光學改進將在像差、重疊和吞吐量方面進行，0.33 NA的EUV光刻機領域，ASML路線圖包括2025年左右的吞吐量wph的NXE:4000F。

對于0.55 NA光刻機不僅需要更新其光刻機系統。同時，需要在光掩模、光刻膠層、圖案轉移工藝等方面齊頭并進，使新設備的應用成為可能。

根據ASML 根據第一季度財務會議披露的數據，該公司的目標是在2022年發貨55臺EUV該系統計劃在2025年實現(最多)90個工具。ASML同時也承認， 90臺可能超過2025年的實際需求，但他們將其描述為滿足2030年半導體行業1萬億美元需求所做的巨大努力。

按照之前的說法，ASML價值4億美元(約26億元人民幣)的新型光刻機正在開發中，雙層巴士大，重200多噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年至2030年主力出貨。

這臺機器應該指的是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是世界上第一家下單的公司。High-NA即高值孔徑，2nm之后的節點必須依靠它來實現。