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2028年自研7nm光刻機(jī)！俄羅斯真的有這種能力嗎？

（2025年4月30日更新）

光刻機(jī)自研可支持2028年7年nm芯片制造！俄羅斯真的有這種能力嗎？

芯片采購(gòu)網(wǎng)專(zhuān)注于整合國(guó)內(nèi)外授權(quán)IC代理商現(xiàn)貨資源，芯片庫(kù)存實(shí)時(shí)查詢(xún)，行業(yè)價(jià)格合理，采購(gòu)方便IC芯片，國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)芯片采購(gòu)平臺(tái)。

隨著芯片規(guī)則的不斷升級(jí)，各國(guó)不再相信基于美國(guó)技術(shù)體系的國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈，中國(guó)和俄羅斯是產(chǎn)業(yè)限制最嚴(yán)重的國(guó)家，因此對(duì)技術(shù)自主研究的反應(yīng)也最強(qiáng)烈。在中國(guó)企業(yè)傳播好消息后，俄羅斯科學(xué)院也正式宣布了好消息。

根據(jù)海外消息，俄羅斯科學(xué)院IPF RAS已全力參與光刻設(shè)備的研發(fā)，未來(lái)將誕生一套完整的半導(dǎo)體設(shè)備，并高調(diào)聲稱(chēng)：自主研發(fā)的光刻機(jī)將于2028年商，可用于7臺(tái)nm量產(chǎn)左右芯片！

這讓人納悶，俄羅斯目前依靠自主產(chǎn)業(yè)鏈，甚至90nm工藝無(wú)法完成，之前宣布實(shí)現(xiàn)28nm工藝，也要等到2023年，現(xiàn)在宣布2028年可以實(shí)現(xiàn)7年nm這真的有可能嗎？

俄羅斯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀

在目前的特殊情況下，俄羅斯半導(dǎo)體的現(xiàn)狀比中國(guó)更為嚴(yán)峻。隨著芯片規(guī)則的不斷升級(jí)，蘋(píng)果、高通、AMD、英特爾、臺(tái)積電、三星等企業(yè)相繼斷供，可以說(shuō)是全國(guó)芯片SiTime代理供應(yīng)渠道被切斷，俄羅斯科學(xué)院只能緊急啟動(dòng)自主研究計(jì)劃。

俄羅斯早些時(shí)候宣布了一項(xiàng)計(jì)劃，預(yù)計(jì)將于2022年底完成90年底nm2023年芯片自主化實(shí)現(xiàn)28nm芯片自主研發(fā)和生產(chǎn)，但顯然這種估計(jì)過(guò)于保守。從技術(shù)角度來(lái)看，8年內(nèi)實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)并不難。

俄羅斯科學(xué)院并不是一個(gè)虛假的名字，在許多頂級(jí)技術(shù)和老美，以航空航天技術(shù)為例，許多國(guó)際衛(wèi)星發(fā)射依賴(lài)俄羅斯，但不幸的是進(jìn)入21實(shí)際，國(guó)家整體經(jīng)濟(jì)蕭條，沒(méi)有那么多資金用于科研項(xiàng)目，導(dǎo)致當(dāng)前的困境。

如果沒(méi)有外部芯片，俄羅斯?jié)M打計(jì)劃只能制造65nm芯片，這也取決于海外半導(dǎo)體設(shè)備，所以可以說(shuō)目前的情況相當(dāng)嚴(yán)峻，光刻機(jī)是芯片制造設(shè)備的核心，自然是克服的主要目標(biāo)。

根據(jù)俄科學(xué)院IPF RAS在介紹中，他們將利用6年時(shí)間制造第一個(gè)工業(yè)原型alpha該機(jī)器將于2024年誕生，它還揭示了早期階段的工作，主要是完善系統(tǒng)的全面性，重點(diǎn)不在于設(shè)備的突破。

到2026年新研發(fā)的時(shí)候Beta將實(shí)現(xiàn)對(duì)于alpha在這個(gè)階段，幾乎所有的系統(tǒng)都已經(jīng)完成。基本上，許多操作過(guò)程都可以自動(dòng)化。屆時(shí)，分辨率和生產(chǎn)力將大大提高。現(xiàn)階段可實(shí)現(xiàn)設(shè)備集成調(diào)試，并將集成應(yīng)用于實(shí)際技術(shù)操作過(guò)程。

最后，它進(jìn)入了最關(guān)鍵的光源集成階段，這也是光刻機(jī)最核心的技術(shù)。幸運(yùn)的是，俄羅斯在X射線光源技術(shù)方面擁有完全獨(dú)立和可控的技術(shù)，這也證實(shí)了相應(yīng)的可行性。經(jīng)過(guò)改進(jìn)升級(jí)，一套完整的光刻機(jī)可以正常投入使用！

俄羅斯科學(xué)院能成功嗎？

面對(duì)全面制裁后，俄羅斯的芯片極度短缺，所有芯片圓晶廠都停止了供應(yīng)。雖然當(dāng)?shù)貙?duì)工藝要求不高，但只能實(shí)現(xiàn)65nm現(xiàn)階段的工藝水平確實(shí)不夠，俄羅斯科學(xué)院也加大了人才培養(yǎng)力度，試圖擺脫這樣的困境。

俄羅斯科學(xué)院院士也表示：ASML追求生產(chǎn)效率近20年，EUV曝光機(jī)有助于全球半導(dǎo)體制造商實(shí)現(xiàn)技術(shù)改進(jìn)，但俄羅斯目前不需要太先進(jìn)的技術(shù)，只需根據(jù)實(shí)際需要跟進(jìn)！

然而，在這樣的消息傳出后，沒(méi)有海外媒體對(duì)俄羅斯持樂(lè)觀態(tài)度。他們都認(rèn)為這樣的計(jì)劃是不可能實(shí)現(xiàn)的。畢竟，以前沒(méi)有技術(shù)基礎(chǔ)，6年內(nèi)完成了7年nm芯片光刻機(jī)的突破顯然有點(diǎn)不切實(shí)際，甚至ASML用了將近20年。