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2028年自研7nm光刻機(jī)!俄羅斯真的有這種能力嗎?
(2025年9月3日更新)

光刻機(jī)自研可支持2028年7年nm芯片制造!俄羅斯真的有這種能力嗎?

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隨著芯片規(guī)則的不斷升級(jí),各國(guó)不再相信基于美國(guó)技術(shù)體系的國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈,中國(guó)和俄羅斯是產(chǎn)業(yè)限制最嚴(yán)重的國(guó)家,因此對(duì)技術(shù)自主研究的反應(yīng)也最強(qiáng)烈。在中國(guó)企業(yè)傳播好消息后,俄羅斯科學(xué)院也正式宣布了好消息。



根據(jù)海外消息,俄羅斯科學(xué)院IPF RAS已全力參與光刻設(shè)備的研發(fā),未來(lái)將誕生一套完整的半導(dǎo)體設(shè)備,并高調(diào)聲稱:自主研發(fā)的光刻機(jī)將于2028年商,可用于7臺(tái)nm量產(chǎn)左右芯片!



這讓人納悶,俄羅斯目前依靠自主產(chǎn)業(yè)鏈,甚至90nm工藝無(wú)法完成,之前宣布實(shí)現(xiàn)28nm工藝,也要等到2023年,現(xiàn)在宣布2028年可以實(shí)現(xiàn)7年nm這真的有可能嗎?



俄羅斯半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀



在目前的特殊情況下,俄羅斯半導(dǎo)體的現(xiàn)狀比中國(guó)更為嚴(yán)峻。隨著芯片規(guī)則的不斷升級(jí),蘋果、高通、AMD、英特爾、臺(tái)積電、三星等企業(yè)相繼斷供,可以說(shuō)是全國(guó)芯片SiTime代理供應(yīng)渠道被切斷,俄羅斯科學(xué)院只能緊急啟動(dòng)自主研究計(jì)劃。



俄羅斯早些時(shí)候宣布了一項(xiàng)計(jì)劃,預(yù)計(jì)將于2022年底完成90年底nm2023年芯片自主化實(shí)現(xiàn)28nm芯片自主研發(fā)和生產(chǎn),但顯然這種估計(jì)過(guò)于保守。從技術(shù)角度來(lái)看,8年內(nèi)實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)并不難。



俄羅斯科學(xué)院并不是一個(gè)虛假的名字,在許多頂級(jí)技術(shù)和老美,以航空航天技術(shù)為例,許多國(guó)際衛(wèi)星發(fā)射依賴俄羅斯,但不幸的是進(jìn)入21實(shí)際,國(guó)家整體經(jīng)濟(jì)蕭條,沒(méi)有那么多資金用于科研項(xiàng)目,導(dǎo)致當(dāng)前的困境。



如果沒(méi)有外部芯片,俄羅斯?jié)M打計(jì)劃只能制造65nm芯片,這也取決于海外半導(dǎo)體設(shè)備,所以可以說(shuō)目前的情況相當(dāng)嚴(yán)峻,光刻機(jī)是芯片制造設(shè)備的核心,自然是克服的主要目標(biāo)。



根據(jù)俄科學(xué)院IPF RAS在介紹中,他們將利用6年時(shí)間制造第一個(gè)工業(yè)原型alpha該機(jī)器將于2024年誕生,它還揭示了早期階段的工作,主要是完善系統(tǒng)的全面性,重點(diǎn)不在于設(shè)備的突破。



到2026年新研發(fā)的時(shí)候Beta將實(shí)現(xiàn)對(duì)于alpha在這個(gè)階段,幾乎所有的系統(tǒng)都已經(jīng)完成。基本上,許多操作過(guò)程都可以自動(dòng)化。屆時(shí),分辨率和生產(chǎn)力將大大提高。現(xiàn)階段可實(shí)現(xiàn)設(shè)備集成調(diào)試,并將集成應(yīng)用于實(shí)際技術(shù)操作過(guò)程。



最后,它進(jìn)入了最關(guān)鍵的光源集成階段,這也是光刻機(jī)最核心的技術(shù)。幸運(yùn)的是,俄羅斯在X射線光源技術(shù)方面擁有完全獨(dú)立和可控的技術(shù),這也證實(shí)了相應(yīng)的可行性。經(jīng)過(guò)改進(jìn)升級(jí),一套完整的光刻機(jī)可以正常投入使用!



俄羅斯科學(xué)院能成功嗎?



面對(duì)全面制裁后,俄羅斯的芯片極度短缺,所有芯片圓晶廠都停止了供應(yīng)。雖然當(dāng)?shù)貙?duì)工藝要求不高,但只能實(shí)現(xiàn)65nm現(xiàn)階段的工藝水平確實(shí)不夠,俄羅斯科學(xué)院也加大了人才培養(yǎng)力度,試圖擺脫這樣的困境。



俄羅斯科學(xué)院院士也表示:ASML追求生產(chǎn)效率近20年,EUV曝光機(jī)有助于全球半導(dǎo)體制造商實(shí)現(xiàn)技術(shù)改進(jìn),但俄羅斯目前不需要太先進(jìn)的技術(shù),只需根據(jù)實(shí)際需要跟進(jìn)!



然而,在這樣的消息傳出后,沒(méi)有海外媒體對(duì)俄羅斯持樂(lè)觀態(tài)度。他們都認(rèn)為這樣的計(jì)劃是不可能實(shí)現(xiàn)的。畢竟,以前沒(méi)有技術(shù)基礎(chǔ),6年內(nèi)完成了7年nm芯片光刻機(jī)的突破顯然有點(diǎn)不切實(shí)際,甚至ASML用了將近20年。



中國(guó)長(zhǎng)期以來(lái)一直參與光刻機(jī)的研發(fā),尚未達(dá)到28nm因此,基本上不可能達(dá)到這個(gè)水平。此外,光有光刻機(jī)還不夠,需要配套設(shè)備。在俄羅斯目前的狀態(tài)下,不可能從國(guó)際供應(yīng)鏈中獲得。



除了設(shè)備,還需要晶圓廠的配合。目前俄羅斯沒(méi)有這樣的企業(yè),所以2030年實(shí)現(xiàn)28nm芯片自主化相對(duì)符合實(shí)際情況。



目前,俄羅斯科學(xué)院諾夫哥羅德代表團(tuán)演示的光刻設(shè)備只是設(shè)備的原型,可以說(shuō)仍處于PPT在后續(xù)階段,開(kāi)發(fā)、制造和安裝并不像預(yù)期的那么簡(jiǎn)單。你覺(jué)得這個(gè)怎么樣?


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